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  • ​​​​​​​感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE由射频电源感应产生等离子体,以产生各向异性蚀刻。在基本ICP-RIE蚀刻系统中,射频直接连接到用作电极的样品台,产生各向同性等离子体。ICPRIE刻蚀系统有时被称为桶型蚀刻机。
  • 反应离子刻蚀系统​​​​​​​RIE600W是一款进口等离子体反应离子蚀刻机,用于各向同性蚀刻,蚀刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜。等离子体蚀刻系统可容纳直径达200mm的晶片样品。我们的定制的反应离子刻蚀系统可根据几何形状和研究需要处理各种样品尺寸。
  • 电子束-电阻热蒸发复合镀膜系统集合了电子束沉积镀膜和电阻式热蒸发镀膜沉积功能,
  • 真空电阻式热蒸发镀膜机CRTE & THE是最具成本效益的真空沉积镀膜技术之一,热蒸发在沉积有机材料如OLED(有机发光二极管)方面有许多应用。
  • 电子束蒸发系统 FPTOR-EB-4P

    品牌:进口 价格:0.00
    电子束蒸发系统EB-4P也是电子束沉积系统,有四个容量不同的袖珍坩埚和各种电源,可以添加热阻源或直流和射频溅射或蚀刻。电子束蒸发系统EB-4P是纳米技术、光学、显微镜、分子束外延、功能和装饰涂层等应用中沉积金属、氧化物、磁性材料和电介质的理想选择。
  • 离子束沉积系统 FPTOR-IBD

    品牌:进口 价格:0.00
    离子束沉积系统IBD采用真空沉积工艺,使用直接聚焦在溅射靶上的宽束离子源实现离子束沉积溅射镀膜。然后,来自靶材的溅射材料沉积在附近的衬底上形成薄膜。
  • 磁控溅射系统 FPTOR-MagSput

    品牌:进口 价格:0.00
    磁控溅射系统MagSput™是下一代磁控溅射沉积系统,实用性腔,可扩展性高,且高度可靠,非常适合磁控溅射镀膜科学研究。
  • 多功能物理气相沉积平台可搭载溅射,热蒸发,电子束蒸发,等离子体和离子束处理功能模块,是多功能PVD系统。允许更大的腔室投掷距离,并能够适应更多工艺增强。
  • COVAP物理气相沉积系统为许多工艺应用提供紧凑、经济、但仍然稳健的PVD解决方案。专为需要安全可靠PVD的实验室而设计,该COVAP物理气相沉积系统可在紧凑的实验室内生产可重复的高质量薄膜。
  • ALD系统 FPANR-AT410

    品牌:进口 价格:0.00
    ALD系统AT410提供了用于3D样品制备的共形导电薄膜解决方案,同时还提供了目前使用溅射/蒸发生长的传统2D涂层。ALD系统AT410不仅推动了边界,而且是当前样品制备过程的有效替代品,所有样品制备都在可比价格点的台式配置内。
  • 等离子体增强原子层沉积系统采用更大的腔室和等离子ALD模块,获得更好的原子层沉积效果。
  • 科研型原子层沉积系统ALD系芬兰picosun公司R-200 standard原子层沉积技术,具有专利的热壁设计和单独的入口,可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。
  • 这套聚焦离子束蚀刻系统是一种超高真空UHV条件多功能FIB系统,既可以配置为扫描电子显微镜SEM,也可以配置为结合SEM和高性能聚焦离子束FIB的双束平台。
  • 超高真空极低温强磁场扫描隧道显微镜是高性能扫描隧道显微镜应用于前沿表面科学研究的理想工具,实现了最低的基温和强磁场。基问可达40mK (typecal 30 mK),可以根据研究目标定制样品制备系统,是研究超导性和低温物理的基础。
  • 低温高真空针尖增强拉曼光谱系统采用全球第一种低温单分子成像方法,在低温高真空条件下,可实现亚纳米级拉曼光谱成像,提高信噪比和灵敏度。
  • 这超高真空超低温四探针SPM是超高真空室内应用设计的UHV极低温多探针扫描探针显微镜,得益于多探针SPM优异性能,这款产品可用于纳米技术。这超高真空超低温四探针SPM采用四个独立控制的探针扫描显微镜,用于器件评价和超低温等宽温度范围内的微纳尺度表面电导率测量。
  • 这高真空极低温扫描探针显微镜是超高真空室内应用设计的高真空极低温SPM扫描探针显微镜,可搭建成近场扫描显微镜和拉曼显微镜。
  • 超低温磁场扫描隧道显微镜是超低温高磁场表面物理研究设计的STM扫描隧道显微镜。
  • 这款低温UHV扫描探针显微镜是超高真空室内应用设计的高真空低温SPM扫描探针显微镜。样品预处理和探针清洗可在超高真空室中进行,使超低温STM/AFM能够进行原子或分子水平的分辨率观测。
  • 这款晶圆热退火炉是半导体晶片惰性气氛快速热退火系统,适合晶圆的最大直径为100mm,晶圆通过上部快速检修门手动装入腔室,并放置在热补偿石墨台上。加热器系统基于线性卤素灯,位于炉体下方。这种设计确保了均匀的晶圆加热,沿晶圆表面具有红外发射的非均匀吸收(例如,具有成形金属拓扑结构的晶圆)。
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