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​​​​​​​感应耦合反应离子刻蚀系统
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​​​​​​​感应耦合反应离子刻蚀系统

​​​​​​​感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE由射频电源感应产生等离子体,以产生各向异性蚀刻。在基本ICP-RIE蚀刻系统中,射频直接连接到用作电极的样品台,产生各向同性等离子体。ICPRIE刻蚀系统有时被称为桶型蚀刻机。
型号:
FPTOR-ICPRIE
品牌:
进口
价格:
¥0.00
类别:
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感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE由射频电源感应产生等离子体,以产生各向异性蚀刻。在基本ICP-RIE蚀刻系统中,射频直接连接到用作电极的样品台,产生各向同性等离子体。ICPRIE刻蚀系统有时被称为桶型蚀刻机。
最初的ICP反应器由石英管组成,射频线圈缠绕在石英管周围,以产生等离子体,从而产生各向异性蚀刻。感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE有多种类型,其中一种重要类型是将电容耦合偏压与样品台相结合,以实现电感耦合RF等离子体蚀刻特性的工艺控制。应用包括电介质材料的干蚀刻。
​​​​​​​感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE详情请联系我们索取。

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