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离子束沉积系统
  • 离子束沉积系统IBD采用真空沉积工艺实现离子束沉积溅射镀膜-孚光精仪

离子束沉积系统

离子束沉积系统IBD采用真空沉积工艺,使用直接聚焦在溅射靶上的宽束离子源实现离子束沉积溅射镀膜。然后,来自靶材的溅射材料沉积在附近的衬底上形成薄膜。
型号:
FPTOR-IBD
品牌:
进口
价格:
¥0.00
类别:
客服热线 021-2279 9028 邮箱: info@felles.cn  孚光精仪-领先的进口光学精密仪器服务商,随时为您提供服务。

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离子束沉积系统IBD采用真空沉积工艺,使用直接聚焦在溅射靶上的宽束离子源实现离子束沉积溅射镀膜。然后,来自靶材的溅射材料沉积在附近的衬底上形成薄膜。
一些应用将使用溅射靶材的组件,该组件可被索引以创建多层薄膜。大多数IBD应用将使用第二个离子源IBAD来控制和增强溅射膜的性能。
离子束沉积系统IBD特点
电抛光不锈钢腔室(D形盒)
带手动快门的前门上的4“直径观察口
匹配双级旋转叶片泵的涡轮分子真空泵系统
带会聚束离子源和电源的离子束沉积,易于安装靶材
具有发散束离子源和电源的离子束辅助沉积
带沉积控制器的石英晶体厚度传感器
带数字读数的质量流量控制器
带数字显示和读数的全量程真空计
半自动控制系统

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